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プラズマプロセスによる薄膜の基礎と応用

市村博司, 池永勝著. -- 日刊工業新聞社, 2005. <BB00094584>
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プラズマプロセスによる薄膜の基礎と応用

市村博司, 池永勝著. -- 日刊工業新聞社, 2005. <BB00094584>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相2F一般500 549.8||I15P 880511528 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相2F一般500
請求記号 549.8||I15P
資料ID 880511528
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プラズマプロセスによる薄膜の基礎と応用 / 市村博司, 池永勝著
プラズマ プロセス ニヨル ハクマク ノ キソ ト オウヨウ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2005.2
形態事項 ix, 276p : 挿図 ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526054208
その他の標題 標題紙タイトル:Thin films
その他の標題 異なりアクセスタイトル:薄膜の基礎と応用 : プラズマプロセスによる
ウスマク ノ キソ ト オウヨウ : プラズマ プロセス ニヨル
注記 参考文献: 各章末
NCID BA71274597
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 市村, 博司(1941-)||イチムラ, ヒロシ <AU50025030>
著者標目リンク 池永, 勝||イケナガ, マサル <AU50000446>
分類標目 電子工学 NDC9:549.8
件名標目等 薄膜||ハクマク
件名標目等 プラズマ||プラズマ
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