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クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術

山田公編著. -- 日刊工業新聞社, 2006. <BB01084198>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相2F一般500 549.1||Y19K 880610626 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相2F一般500
請求記号 549.1||Y19K
資料ID 880610626
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 クラスターイオンビーム基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術 / 山田公編著
クラスター イオン ビーム キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 日刊工業新聞社 , 2006.10
形態事項 xi, 223p ; 21cm
巻号情報
ISBN 4526057657
その他の標題 標題紙タイトル:Cluster ion beam technology : advanced nano fabrication process
その他の標題 標題紙タイトル:クラスターイオンビーム : 基礎と応用 : 次世代ナノ加工プロセス技術
クラスター イオン ビーム : キソ ト オウヨウ : ジセダイ ナノ カコウ プロセス ギジュツ
NCID BA79102802
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 山田, 公||ヤマダ, イサオ <AU50037186>
分類標目 電子工学 NDC8:549.1
分類標目 電子工学 NDC9:549.1
件名標目等 イオンビーム||イオンビーム