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オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

[金原粲ほか執筆]. -- 技術情報協会, 2006. <BB01127911>
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オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術

[金原粲ほか執筆]. -- 技術情報協会, 2006. <BB01127911>
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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相2F一般500 549.9||KI41O 881004397 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相2F一般500
請求記号 549.9||KI41O
資料ID 881004397
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製・制御技術 / [金原粲ほか執筆]
オプトエレクトロニクス ブンヤ オ チュウシン トシタ スパッタリングホウ ニヨル ハクマク サクセイ セイギョ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : 技術情報協会 , 2006.10
形態事項 346p ; 27cm
巻号情報
ISBN 4861041252
その他の標題 異なりアクセスタイトル:オプトエレクトロニクス分野を中心としたスパッタリング法による薄膜作製制御技術
オプトエレクトロニクス ブンヤ オ チュウシン トシタ スパッタリングホウ ニヨル ハクマク サクセイ セイギョ ギジュツ
NCID BA79229100
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 金原, 粲(1933-)||キンバラ, アキラ <AU40068304>
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