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プラズマプロセシングの基礎

Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB00930011>
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プラズマプロセシングの基礎

Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳. -- 電気書院, 1985. <BB00930011>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相2F一般400 427.5||OK3P 779705271 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相2F一般400
請求記号 427.5||OK3P
資料ID 779705271
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 プラズマプロセシングの基礎 / Brian N. Chapman著 ; 岡本幸雄訳
プラズマ プロセシング ノ キソ
出版・頒布事項 東京 : 電気書院 , 1985.11
形態事項 13, 391p ; 22cm
巻号情報
ISBN 4485661180
その他の標題 原タイトル:Glow discharge processes : sputtering and plasma etching
注記 Glow discharge processes, c1980 の翻訳
注記 参考文献: p[357]-386
NCID BN00319697
本文言語コード 日本語
著者標目リンク Chapman, Brian N. <AU40142739>
著者標目リンク 岡本, 幸雄||オカモト, ユキオ <AU40142740>
分類標目 電磁気学 NDC8:427.6
分類標目 科学技術 NDLC:MC241
件名標目等 プラズマ||プラズマ
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