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ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books ; 79). <BB00085911>
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ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役

布施玄秀, 平尾孝編著. -- 工業調査会, 1991. -- (K books ; 79). <BB00085911>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相自動書庫図書 500||K1||V.79 779305004 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相自動書庫図書
請求記号 500||K1||V.79
資料ID 779305004
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 ここまできたイオン注入技術 : 超LSIプロセスのリード役 / 布施玄秀, 平尾孝編著
ココマデ キタ イオン チュウニュウ ギジュツ : チョウ LSI プロセス ノ リードヤク
出版・頒布事項 東京 : 工業調査会 , 1991.6
形態事項 182p ; 19cm
巻号情報
ISBN 4769360800
書誌構造リンク K books <BB01260488> 79//a
NCID BN06481370
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 布施, 玄秀(1951-)||フセ, ゲンシュウ <AU40149831> 編著
著者標目リンク 平尾, 孝||ヒラオ, タカシ <AU40140374> 編著
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
件名標目等 半導体||ハンドウタイ
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