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シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著. -- リアライズ社, 1995. <BB00923556>
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シリコンウェーハ表面のクリーン化技術

柏木正弘, 服部毅編著. -- リアライズ社, 1995. <BB00923556>
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所蔵一覧 1件～1件（全1件）

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No. 巻号 所蔵館 配置場所 請求記号 資料ID 状態 コメント 予約 WEB書棚
0001 相模原分館 相自動書庫図書 549.8||KA77S 779705675 0件
No. 0001
巻号
所蔵館 相模原分館
配置場所 相自動書庫図書
請求記号 549.8||KA77S
資料ID 779705675
状態
コメント
予約 0件
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書誌詳細

標題および責任表示 シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 / 柏木正弘, 服部毅編著
シリコン ウェーハ ヒョウメン ノ クリーンカ ギジュツ
出版・頒布事項 東京 : リアライズ社 , 1995.2
形態事項 333,8p ; 30cm
巻号情報
ISBN 4947655755
注記 各章末:参考文献
NCID BN13748765
本文言語コード 日本語
著者標目リンク 柏木, 正弘
カシワギ, マサヒロ <>
著者標目リンク 服部, 毅
ハットリ, タケシ <>
分類標目 電子工学 NDC8:549.8
分類標目 科学技術 NDLC:ND371
件名標目等 シリコン(半導体)||シリコン(ハンドウタイ)
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